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半導(dǎo)體和LED照明產(chǎn)業(yè)

最初,熱式質(zhì)量流量計(jì)和控制器是在1970年代為半導(dǎo)體制造過(guò)程中的氣相沉積而開發(fā)的。由于市場(chǎng)需求以及在氣體、液體和蒸汽輸送方面引進(jìn)新的更好產(chǎn)品的需要,Bronkhorst成為半導(dǎo)體、平板顯示器和LED行業(yè)的主要供應(yīng)商。針對(duì)化學(xué)氣相沉積(CVD)、平板顯示器噴涂(FPD)和原子層沉積(ALD)工藝,Bronkhorst可為直接液體注入系統(tǒng)提供金屬密封流量?jī)x表。

應(yīng)用案例

  • 切割(激光)前在晶片上沉積保護(hù)層
  • 金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積(MOCVD)
  • 原子層沉積(ALD)
  • 超臨界流體定量給料和控制(如超臨界二氧化碳清洗)
  • 平板顯示器(FPD)噴涂

應(yīng)用案例

流量控制 | MOCVD

流量控制對(duì)MOCVD應(yīng)用很重要。流量控制如何幫助Bronkhorst客戶(TV制造商)提高LED產(chǎn)品質(zhì)量?

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MOCVD 過(guò)程中的流量控制
在FOUP卸載模塊應(yīng)用質(zhì)量流量控制器進(jìn)行氮?dú)獯祾? width=

在FOUP卸載模塊應(yīng)用質(zhì)量流量控制器進(jìn)行氮?dú)獯祾?/strong>

目前技術(shù)要求在生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)氣體進(jìn)行更好的流量控制,以提高產(chǎn)量并降低這些氣體的使用成本。

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超臨界氣體測(cè)量與控制

當(dāng)流體例如二氧化碳(CO2)在氣液兩相臨界區(qū)域處,難以測(cè)量它們的流量。建議使用科里奧利質(zhì)量流量計(jì)。

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超臨界氣體測(cè)量與控制